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フォトレジストとは何ですか?解りやすく教えてください。

  • 質問者:匿名希望
  • 質問日時:2010-12-20 00:00:55
  • 0

回答してくれたみんなへのお礼

ご回答有難うございました。
質問から30分経過し、十分納得の行く回答も戴きましたし、後続の回答も無いようなので終了とさせて頂きました。(終了時間・0:31)
有難うございました。

フォトレジストとは、フォトリソグラフィにおいて使用される、光や電子線等によって溶解性などの物性が変化する組成物である
物質の表面に塗布され、後に続くエッ チングなどの処理から物質表面を保護することから、「レジスト」(resist)の名がある
しかしながら、現在では、感光性を有し、画像様露光・現像によりパターニングを行って表面に画像層を形成することができる物質であればフォトレジストと呼ばれ、必ずしも保護の働きがあるとは限らない
http://ja.wikipedia.org/wiki/%E3%83%95%E3%82%A9%E3%83%88%E3%83%AC%E3%82%B8%E3%82%B9%E3%83%88

===補足===
フォトレジストとは、露光・現像の原理(銀塩写真と同じ)により微細加工を行うフォトリソグラフィで使用する、光で感光する樹脂材料のこと
作成したいパターンで露光すると、光があたった部分の樹脂だけが化学的に変化し、現像液に対する溶解度の差により露光と同じパターンのレジストが形成される。露光した部分が残るネガ型と、露光されなかった部分が残るポジ型がある
性状としては液状タイプとフィルム状のものがあり、半導体製造、フラットパネルディスプレイ製造、プリント基板製造などに使用される
http://www.monosiri.jp/term/%E3%83%95%E3%82%A9%E3%83%88%E3%83%AC%E3%82%B8%E3%82%B9%E3%83%88
ネガ型とポジ型
フォトレジストは、光・電子線との反応方法から大きく分けてポジとネガに分けられる
ネガ型
ネガ型は露光されると現像液に対して溶解性が低下し、現像後に露光部分が残る。
現像液には多くが有機溶剤を使用しており、扱いや環境の面でポジ型に対して不利がある。また現像時に溶剤がレジストを膨潤させる事から微細配線への対応が難しくなる。
これらの事情から現在、半導体向けでは縮小傾向にあり、製造元も限られてきている
ポジ型
ネガ型とは逆に、露光されると現像液に対して溶解性が増大し、露光部が除去される。 現像はアルカリ溶液で行われ、TMAH(テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド)が最も良く用いられる

フォトレジストとは
半導体回路を描くフォトレジストには、露光に使う光源の波長に応じてg線レジスト、
i線レジスト、KrFレジスト、ArFレジストなどの種類があります。
KrFやArFは特に微細な線幅の半導体製造に使われる最先端の製品です。
同じ波長向けでも、たくさんの種類のフォトレジストがあります。
それぞれの半導体メーカの使い方や、描こうとする回路の特徴に応じて製品の設計が変わるからです。またフォトレジストの性能も次々に改良されてゆきます。
フォトレジストは基本的に樹脂と感光剤、それにいくつかの添加剤を溶剤に溶かしたものです。しかし単なる「樹脂」や「感光剤」と思うなかれ、これらは実に精緻な化学構造設計のなされた化合物で、「化学の芸術品」ともいうべき素材達なのです。
技術紹介文
http://ffem.fujifilm.co.jp/jobs/recruit/tech/index05.html

  • 回答者:匿名 (質問から4分後)
  • 0
この回答の満足度
  
とても参考になり、非常に満足しました。回答ありがとうございました。

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フォトレジストとは、フォトリソグラフィにおいて使用される
光や電子線等によって溶解性などの物性が変化する組成物である。

物質の表面に塗布され、後に続くエッ チングなどの処理から物質表面を保護することから
「レジスト」(resist)の名がある。
しかしながら、現在では、感光性を有し、画像様露光・現像によりパターニングを行って
表面に画像層を形成することができる物質であればフォトレジストと呼ばれ
必ずしも保護の働きがあるとは限らない。



http://ja.wikipedia.org/wiki/%E3%83%95%E3%82%A9%E3%83%88%E3%83%AC%E3%82%B8%E3%82%B9%E3%83%88

  • 回答者:匿名希望 (質問から3分後)
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とても参考になり、非常に満足しました。回答ありがとうございました。

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